세계는 풍부하고 지속 가능한 사회를 실현하기 위해 "디지털화"와 "탈탄화"라는 두 가지 메가 트렌드를 연구하고 있습니다 이 경우 반도체는 핵심 기술입니다 이것은 정교한 정보 및 커뮤니케이션 사회를 실현하는 데 필수적입니다

고품질 반도체 칩을 실현하기 위해 반도체 산업은 칩에 설치된 회로의 소형화를 촉진하고 있으며 기능, 성능 및 전력 소비를 개선하기 위해 통합 수준을 개선하기 위해 노력하고 있습니다 이러한 최첨단 칩을 만들기 위해서는 다른 산업에서 비교할 수없는 기술을 사용하여 제조 된 구성 요소가 필수적입니다

AGC는 최첨단 칩 제조에 필수적인 두 가지 구성 요소를 공급합니다 현재, 전 세계의 두 회사 만 공급할 수있는 희귀 한 재료 "EUV 노출 포토 마스크 블랭크"(EUV 마스크 블랭크라고 함)와 칩의 품질을 결정하는 중요한 재료 인 Ceria Slurry 두 경우 모두 AGC는 전례없는 분야의 개발, 생산 및 공급을 위해 수년에 걸쳐 축적 된 기술을 기반으로 인적 자원의 강점을 수집했습니다

빠르게 변화하는 반도체 산업에서 AGC는 전문 직원과 환경이 있으면 고객이 원하는 최첨단 구성 요소를 지속적으로 개발하고 제공 할 수 있습니다

그림 1 : AGC의 전자 부품 비즈니스 본사가 처리하는 제품 그룹 우리는 다양한 재료 라인업, 가공 및 설계 기술을 제공하여 독특한 솔루션을 제공합니다

소형화를 원하는 반도체 제조업체에게 AGC가 제공하는 중요한 구성 요소 중 하나 인 "EUV 마스크 블랭크"는 반도체 칩에 회로 패턴을 형성 할 때 사용되는 포토 마스크의 원래 플레이트입니다 지금까지 반도체 칩의 회로 패턴은 파장이 193 nm 이상인 자외선으로 전달되었습니다 그러나, 여러 NM의 매우 미세한 스케일로 회로를 형성하는 절단 에지 칩의 제조 공정에서, 135 nm의 파장을 갖는 극한의 자외선 (EUV) 광으로 높은 정밀 노출로 회로 패턴을 전달해야하며, 이는 종래의 방법의 1/10 미만이다 이 EUV 노출은 마스크 블랭크의 평탄도와 결함이 종래의 10 분의 1로 감소되어야합니다

반면에, 또 다른 중요한 구성 요소 인 Ceria Slurry는 CMP (Chemical Mechanical Polishing)이라는 기술을 사용하여 제조 하에서 웨이퍼 표면을 평평하게하는 데 사용되는 연마제입니다 그 중에서도 AGC가 제공하는 "Ceria Slurry"는 연마 곡물에 CERIA (CERIUM OXIDE)의 미세 입자를 사용합니다 최근에는 칩에 형성된 요소와 배선이 복잡한 3 차원 구조가되었습니다 따라서, 제조 공정에서 표면의 불균일성이 평평하게 만들어지지 않으면 패턴을 겹치거나 균일 한 균질 한 박막을 형성하여 패턴을 전달하기가 어려워집니다 AGC의 Ceria Slurry는 특히 칩 성능과 품질에 영향을 미치는 프로세스에 사용됩니다

빠른 반도체 제조업은 기술적 인 진보로 기술이 계속 발전하는 매우 특별한 영역입니다 사용될 EUV 마스크 블랭크와 Ceria Slurry는 기술 혁신을 계속 추구하는 반도체 제조업체와 함께 구성 요소 수준에서 계속 개선하고 혁신해야합니다 또한, 이러한 기술의 개발에 관여하고 제품 공급 제품 공급에 관여하는 AGC는 반도체 제조업체의 요구에 신속하고 적절하게 대응해야하며, 이동성과이를 지원하는 작업 환경을 지원하는 조직 구조가 있어야합니다

이러한 부서 간 협력의 강점은 Seria Slurry에서 동일합니다 "우리는 재료 인 연마 곡물에서 사내에서 제품을 개발하고 제조하고 고객의 요구를 충족시키는 고품질 Ceria 슬러리를 만듭니다 일반적으로 우리는 종종 외부에서 조달하지만 고객은 사내를 처리하는 AGC의 고유 한 강점을 높이 평가합니다"

AGC에는 많은 경력이 있습니다 전문 지식, 기술 및 가치를 포함한 다양한 배경의 인적 자원이 함께 모여 함께 일할 때만 혁신적인 아이디어가 태어날 수 있다고 생각하기 때문입니다

일자리를 바꾸고 AGC의 반도체 관련 자료 사업에 합류 한 경력에 따른 직원은 경쟁 업체, 사용자 및 기타 회사의 관점에서 AGC의 강점을 객관적으로 관찰해야합니다 그들이 회사에 일자리를 바꿨을 때 그들이 집중 한 요점은 무엇입니까?

AGC는 2003 년에 EUV 마스크 블랭크에 대한 연구 및 개발을 시작했습니다 Miura는 "나는 널리 인식되지 않은 EUV 마스크 블랭크의 고급 특성에 매료되었으며 기술의 중요성은 널리 인식되지 않았습니다 반도체는 빠르게 변화하는 산업이라는 느낌이 들었습니다 개발"

Sales Zen은 "마케팅, 비즈니스 계획 및 비즈니스 관리와 같은 전체 비즈니스를 조립할 수있는 광범위한 관점에서 새로운 가치를 창출하는 영업 담당자가되고 싶었습니다" 직원들이 부서별 경계를 초월하는 협업을 통해 일할 수있는 AGC의 내부 환경은 정말 이상적입니다

그림 2 AGC의 전자 부품 사업의 역사 이 회사는 30 년이 넘는 시간 동안 새로운 기술 개발에 끊임없이 도전하고 장기적인 관점으로 전략을 홍보하고 있습니다

최첨단 재료를 연구하는 고도로 전문화 된 직원을 위해 능력을 완전히 활용하고 성과를 극대화하기 위해서는 조직의 지원 시스템과 성취 된 목적 감각으로 작업 할 수있는 환경을 확보하는 것이 필수적입니다 AGC에 가입 한 후이 후속 시스템에 대해 어떻게 생각 했습니까?

"저는 EUV 마스크 공백을 개발하는 데 속도가 중요하다고 생각합니다 청소년조차도 큰 재량을 부여한다는 책임감과 보상을 느낍니다 물론 모든 것을 스스로 해결할 수는 없습니다 우리는 우리 부서뿐만 아니라 다른 부서와 함께 일할 수있을뿐만 아니라 이것에 의해 지원되는 작업장의 훌륭한 환기와 함께 일할 것입니다" 이 외에도 교육 시스템은 Python을 사용하여 프로그래밍 기술의 획득을 지원하는 것과 같은 포괄적이며 기술을 향상시키기 위해 자발적으로 목표로합니다

직장 생활 균형 및 그들이 사용하는 직장 ​​분위기와 관련된 시스템의 확립도 좋습니다 Zen은 "보육 휴가 시스템에서 한 달 정도 휴가를 계획하고있다 내 직장에는 육아 휴직을 장려하는 분위기가 있었다 현재 일하고있는 부서는 집에서 일하는 것을 통합하는 하이브리드 작업 시스템이다 나는 가족과의 시간을 소중히 여기면서 효율적으로 일할 수있다

EUV 마스크 블랭크 비즈니스를 담당하는 AGC 전자 장치의 제조 및 개발 기반 인 Motomiya 사무소는 도호쿠 지역의 핵심 도시 중 하나 인 후쿠시마 현지의 코리 ​​야마시 근처에 위치하고 있습니다 타카 쿠라는“코리 야마는 센다이와 도쿄 사이의 중간에 있으며, 단 하나의 기차로 니이 가타에 갈 수있다 유급 휴가를 받고 다양한 장소로의 짧은 여행을 가면서 균형 잡힌 삶을 살 수있다”고 타카 쿠라는 말했다 일하기 쉬운 일뿐만 아니라 쇼핑과 여가를위한 매력적인 생활 환경도 있습니다

MR Miura는 "다양한 EUV 마스크 블랭크 필름 형성이있다 나는 현재이 영화 형성 중 하나를 담당하고 있지만 앞으로는 다른 영화 형성에 대한 지식을 축적하고 전체 마스크를 비워 둘 수있는 인적 자원이되기를 원한다"고 말했다

Takakura는 "일자리를 변경했을 때 30 대에 해외 과제에 할당 된 목표를 세웠습니다 AGC의 반도체 사업에는 해외 고객이 많으며 많은 비즈니스 위치가 해외에 위치하고 있습니다 저는 현재 비즈니스 컨텐츠에 부딪치지 않고 내 과제를 깨닫고 싶습니다"

AGC는 "인적 자원을위한 AGC"전략으로 다양성을 가치가 있습니다 조직 결과를 극대화하는 것이 중요하지만, 각 직원의 경력을 형성하는 데 중요한 정책이기도합니다 각 직원이 구상하는 다양한 미래는 아마도 내일의 AGC의 원천이 될 것입니다

Nikkei Crosstech 스페셜 게시 된 기사

*부서의 이름과 제목은 인터뷰 시점입니다

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